定冷水樹(shù)脂的離子交換除硅原理與除硅技術(shù)發(fā)電機(jī)內(nèi)冷水專(zhuān)用樹(shù)脂是我公司根據(jù)我國(guó)目前發(fā)電廠的小混床裝置，出水要求精心，精制研發(fā)生產(chǎn)的一種即用型專(zhuān)用樹(shù)脂，現(xiàn)場(chǎng)在電廠系統(tǒng)設(shè)備完善，除鹽水達(dá)到補(bǔ)水要求，即可達(dá)到電力標(biāo)準(zhǔn)。用于發(fā)電機(jī)內(nèi)冷循環(huán)水的處理。適用于發(fā)電機(jī)內(nèi)冷水的離子交換處理及微堿性離子交換處理。該技術(shù)較補(bǔ)加凝結(jié)水水法及緩蝕劑處理法有明顯的技術(shù)優(yōu)勢(shì)，通過(guò)提高內(nèi)冷水的PH值，使空心導(dǎo)線處于相對(duì)鈍化狀態(tài)，降低了銅的腐蝕速率，同時(shí)離交混床還起到了旁路過(guò)濾的作用，截留系統(tǒng)中原有的氧化銅顆粒和其他腐蝕產(chǎn)物，減少了線棒堵塞的可能性。經(jīng)處理后的出水能同時(shí)滿足DL/T801-2010《大型發(fā)電機(jī)內(nèi)冷卻水質(zhì)及系統(tǒng)技術(shù)要求》中關(guān)于PH、電導(dǎo)率及含銅量的要求。用于發(fā)電機(jī)內(nèi)冷循環(huán)水的處理,進(jìn)水電導(dǎo)≤0.5μs/cm出水電導(dǎo)可達(dá)到≤0.15μs/cm。內(nèi)冷水通過(guò)樹(shù)脂后電阻率在15MΩ以上,按要求裝填方法使用可達(dá)到18 MΩ。滿足發(fā)電機(jī)內(nèi)冷水指標(biāo)要求。適用于發(fā)電機(jī)內(nèi)冷水的離子交換處理及微堿性離子交換處理。定冷水樹(shù)脂的離子交換除硅原理與除硅技術(shù)硅(SiO2)作為弱酸，在水中以與硅酸氫根(HSiO3)離子平衡的形式存在。離子形態(tài)的硅可用強(qiáng)堿陰樹(shù)脂在OH型循環(huán)操作中除去。既然兩種形態(tài)的硅以平衡的形式存在，那么可將硅從溶液中幾乎去除。當(dāng)硅以離子狀態(tài)存在，并與硅酸氫根形成平衡時(shí)，硅的化合物被稱(chēng)作活性硅。硅在水中也可以聚合物形式存在，通常稱(chēng)作膠體硅。這種長(zhǎng)鏈的硅化合物實(shí)際上不具有帶電荷的離子特性，因而不能通過(guò)離子交換工藝去除。

離子交換樹(shù)脂

　　離子交換樹(shù)脂的硅和鍋爐給水

　　在高壓鍋爐中硅是一個(gè)難題。硅有足夠的揮發(fā)性，這樣高壓鍋爐會(huì)產(chǎn)生硅的蒸汽攜帶。當(dāng)汽輪機(jī)的蒸汽壓力降低時(shí)，硅會(huì)以玻璃態(tài)形式沉積在汽輪機(jī)的葉片上，從而降低汽機(jī)效率。兩種形態(tài)的硅，包括膠體硅和活性硅，都能產(chǎn)生這種問(wèn)題。因?yàn)槟z體硅在高溫高壓下也會(huì)分解、揮發(fā)。

離子交換樹(shù)脂

　　離子交換樹(shù)脂的除硅技術(shù)

　　強(qiáng)堿陰樹(shù)脂實(shí)際上能夠有效去除所有活性硅，在很多應(yīng)用中可以達(dá)到ppb級(jí)。相關(guān)的DOWEX™離子交換樹(shù)脂的工程手冊(cè)可以幫助你預(yù)測(cè)在一定的運(yùn)行條件下活性硅的去除率。然而，膠體硅不能通過(guò)離子交換機(jī)理去除。離子交換樹(shù)脂的確可以通過(guò)機(jī)械過(guò)濾去除一些膠體硅，但是樹(shù)脂在這個(gè)過(guò)程中不是非常有效。膜處理實(shí)際上能夠去除所有膠體硅。反滲透和超濾在這方面都有效果。反滲透的一個(gè)另外的優(yōu)勢(shì)是對(duì)活性硅也有顯著的去除率(98+)。

離子交換樹(shù)脂

　　后，澄清池的絮凝技術(shù)在去除膠體硅方面也非常有效。這項(xiàng)技術(shù)的大困難在于當(dāng)?shù)叵滤a(chǎn)生很高的徑流時(shí)，會(huì)發(fā)生膠體硅的“尖峰"泄漏現(xiàn)象。如果沒(méi)有檢測(cè)到這種現(xiàn)象并采取措施時(shí)，硅就不能被嚴(yán)格地除掉。為有效去除膠體硅，要求在操作單元操作過(guò)程時(shí)要小心謹(jǐn)慎。